導(dǎo)讀： 終于還是被逼急了？美國(guó)斷供芯片 俄羅斯決定自研造光刻機(jī)繼微軟、英特爾、蘋果、聯(lián)想等科技巨頭宣布對(duì)俄羅斯發(fā)起制裁之后，新的
終于還是被逼急了？美國(guó)斷供芯片 俄羅斯決定自研造光刻機(jī)
繼微軟、英特爾、蘋果、聯(lián)想等科技巨頭宣布對(duì)俄羅斯發(fā)起制裁之后，新的一輪的制裁又來(lái)了，俄羅斯最大的微電子制造商和出口商Mikron被列入制裁清單，并禁止所有美企與其進(jìn)行往來(lái)。
Mikron成立于1959年，從2006年開(kāi)始研發(fā)180nm芯片制程，在2010年掌握了90nm芯片制程，并在2016年量產(chǎn)了65nm芯片制程，也是俄羅斯唯一一家掌握65nm芯片制程的廠商。面對(duì)步步緊逼的制裁，俄羅斯也突然宣布了一個(gè)消息——決定自己研發(fā)X光刻機(jī)。
熟悉芯片的人應(yīng)該都知道光刻機(jī)是全球人類共同智慧的結(jié)晶，目前最先進(jìn)的便是由荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)了，可以制造出5nm、甚至是3nm制程的芯片，幾乎沒(méi)有哪一個(gè)公司或者國(guó)家能夠單獨(dú)制造出最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)。然而在俄羅斯的支持下，莫斯科電子技術(shù)學(xué)院將開(kāi)始自研X光刻機(jī)的任務(wù)。
目前的EUV光刻機(jī)是讓極紫外光線透過(guò)放大的掩膜，再通過(guò)縮圖透鏡“投影”到晶圓上進(jìn)行光刻。那什么是X光刻機(jī)？就是直接使用X射線通過(guò)縮圖透鏡進(jìn)行光刻機(jī)，原理上甚至比目前的EUV光刻機(jī)更方便。但是X光刻機(jī)目前的難點(diǎn)是無(wú)法解決普通透鏡帶來(lái)的無(wú)法放大、縮小的問(wèn)題，還有X射線工藝、效率問(wèn)題。在俄羅斯貿(mào)工部投資了6.7億盧布（約合5100元人民幣）后，莫斯科電子技術(shù)學(xué)院將對(duì)X光刻機(jī)的理論進(jìn)行驗(yàn)證，爭(zhēng)取達(dá)到28nm芯片制程。
與國(guó)內(nèi)情況不同的是俄羅斯在上個(gè)世紀(jì)80年代就啟動(dòng)了對(duì)于光刻機(jī)相關(guān)技術(shù)的研究，并且俄羅斯在數(shù)學(xué)領(lǐng)域也很強(qiáng)，還有前蘇聯(lián)留下的計(jì)算機(jī)工業(yè)基礎(chǔ)。如果前蘇聯(lián)的科學(xué)家們能夠得到足夠的資金與支持，也許現(xiàn)在的計(jì)算機(jī)與互聯(lián)網(wǎng)都會(huì)是俄羅斯的天下，遺憾的是前蘇聯(lián)的有關(guān)部門一次又一次的判斷失誤，導(dǎo)致他們最終錯(cuò)失了計(jì)算機(jī)時(shí)代。
總體來(lái)看，俄羅斯在芯片領(lǐng)域的研究還是有基礎(chǔ)的，缺少的只是資金支持和動(dòng)力，而在現(xiàn)在這樣的情況下，俄羅斯能夠研究出X光刻機(jī)也并不是沒(méi)有可能。如果俄羅斯能夠成功的研究出X光刻機(jī)，那么對(duì)于國(guó)內(nèi)華為這樣的公司也是一個(gè)不錯(cuò)的好消息，也能夠穩(wěn)固我們?cè)谛酒系牡匚弧?/p>
至于俄羅斯到底能不能突破目前光刻機(jī)的瓶頸，還是需要時(shí)間來(lái)驗(yàn)證。試問(wèn)，你對(duì)此事又有什么看法呢？
